安集科技(688019)：26Q3营收利润稳健增长 CMP抛光液全品类布局

公司发布2026 年三季报，26Q3 实现营收9.28 亿元，同比+38.39%/环比+15.66%；归母净利润8.42 亿元，同比+261.86%/环比+159.81%；扣非归母净利润3.02 亿元，同比+66.84%/环比+31.67%，其中Q3 非经常性损益5.40 亿元、主要系金融资产公允价值变动。公司主营业务为关键半导体材料的研发和产业化，产品包括不同系列的化学机械抛光液、功能性湿电子化学品和电镀液及添加剂系列产品，主要应用于集成电路制造和先进封装领域，并持续加快建立核心原材料自主可控供应能力。维持“增持”投资评级。


　　26Q3 营收稳健增长，归母扣非同环比均大增。26Q3 实现营收9.28 亿元，同比+38.39%/环比+15.66%，收入增长主要系公司产品研发进展及市场拓展均实现预期，紧跟客户需求并匹配其放量节奏，带动营业收入实现稳健增长；毛利率56.75%，同比-0.22pct/环比+0.98pct；归母净利润8.42 亿元，同比+261.86%/ 环比+159.81% ； 扣非净利润3.02 亿元， 同比+66.84%/ 环比+31.67%。Q3 非经常性损益5.40 亿元、去年同期约0.52 亿元，同比增加约4.89 亿元，主要系公允价值变动损益和投资收益合计6.34 亿元。


　　CMP 抛光液全品类布局，客户导入有望进一步释放业绩弹性。公司化学机械抛光液已形成全品类产品矩阵，铜及铜阻挡层抛光液在先进制程持续上量，自我迭代产品在客户端验证顺利并逐步实现量产销售；钨抛光液在存储芯片和逻辑芯片领域的成熟和先进工艺市场份额持续稳健上升；基于氧化铈磨料的抛光液市场占有率持续扩大，已实现浅沟槽隔离、介电质等氧化铈磨料抛光液的全面量产；金属栅极抛光液在数家客户实现量产并持续上量；用于TSV、TGV、混合键合和聚合物的先进封装抛光液多款产品在多个新客户端作为首选供应商实现量产销售，销售持续上量。


　　功能性湿电子化学品与电镀液持续突破，新品量产打开成长空间。公司功能性湿电子化学品已涵盖刻蚀后清洗液、光刻胶剥离液、抛光后清洗液及刻蚀液等多种产品系列。先进制程刻蚀后清洗液研发及产业化进展顺利、快速上量并持续扩大海外市场，先进制程碱性铜抛光后清洗液快速上量、持续增加市场份额，刻蚀液验证进展顺利并实现小量量产，公司持续加强3D IC 领域布局、多款产品在国内客户成为首选。电镀液及添加剂方面，集成电路大马士革电镀液及添加剂已进入量产阶段并实现销售，先进封装锡银电镀液及添加剂以及硅通孔电镀液及添加剂开发及验证按计划进行。


　　加快建设原材料自产能力，有望保障公司长期供应。生产化学机械抛光液所需的关键原材料主要包括硅溶胶、气相二氧化硅和二氧化铈等，其中公司在硅溶胶与氧化铈颗粒两类已形成初步自供能力。硅溶胶方面，参股子公司开发的多款硅溶胶产品已应用在公司多款抛光液产品中并实现量产，销售持续上量。氧化铈方面，公司通过自研自建持续加强氧化铈颗粒制备能力，基于自产氧化铈磨料的抛光液产品已实现成熟制程到先进制程全覆盖，已在客户端量产销售并显著提高客户良率，先进制程用浅槽隔离抛光液验证进展顺利。


　　公司持续加快建立核心原材料自主可控供应的能力，一方面优化产品性能、提升现有产品竞争力，另一方面加强新产品、新技术的研究开发，保障公司产品长期供应的安全性和可靠性。


　　投资建议。受益于全球晶圆产能扩张和AI 高性能计算带来的先进制程需求增加，半导体材料市场规模持续扩大。公司已成功搭建“3+1”技术平台及应用领域，围绕化学机械抛光液、功能性湿电子化学品、电镀液及添加剂及核心原材料四个方向构筑核心竞争力，技术及产品已涵盖集成电路制造中抛光、清洗、沉积三大关键工艺，在需求扩容与国产化替代两条主线上均具备承接能力。我们调整公司26-28 年营收至32.94/41.51/51.93 亿元，归母净利润至15.65/12.97/16.50 亿元，对应PE 为31.2/37.7/29.8 倍。维持“增持”投资评级。


　　风险提示：新产品研发及客户验证不及预期；下游晶圆厂扩产及资本开支不及预期；行业竞争加剧导致产品价格下降；原材料供应及价格波动风险；汇率波动风险。

□.鄢.凡./.谌.薇./.王.焱.仟    .招.商.证.券.股.份.有.限.公.司